真空镀膜设备及镀膜加工
真空镀膜工艺简介：
真空镀膜学名物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)，表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。
九大类镀膜产品，包括多弧离子真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、中频磁控真空镀膜设备、蒸发真空镀膜设备、光学真空镀膜设备、卷绕式真空镀膜设备、DLC真空镀膜机+工模具镀膜系列，AZO透明导电膜镀膜生产线和连续式磁控溅射镀膜生产线等。
第2篇：PVD镀膜工艺
PVD镀膜工艺PVD镀膜工艺
1.装饰件材料（底材）
(1)金属。不锈钢、钢基合金、锌基合金等。(2)玻璃、陶瓷。
(3)塑料。abs、pvc、pc、sheet、尼龙、水晶等。
(4)柔性材料。涤纶膜、pc、纸张、布、泡沫塑料、钢带等。2.装饰膜种类
(1)金属基材装饰膜层：tin、zrn、tic、crnx、ticn、crcn、ti02、al等。(2)玻璃、陶瓷装饰膜层：tio2、cr2o3、mgf2、zns等。(3)塑料基材装饰膜层：ai、cu、ni、si02、ti02、ito、mgf2。(4)柔性材料装饰膜层：al、lto、ti02、zns等。3.部分金属基材装饰膜颜色
金属基材装饰膜的种类和色调很多。表1为部分金属基材装饰膜的种类及颜色。
表1 部分金属基材装饰膜的种类及颜色膜层种类 色 调 tinx 浅黄、金黄、棕黄、黑色 tic 浅灰色、深灰色 ticxny 赤金黄色、玫瑰金色、棕色、紫色 tin+ au 金色 zrn 金黄色 zrcxny 金色、银色 tio2 紫青蓝、绿、黄、橙红色 crnx 银白色 tixal-nx 金黄色、棕色、黑色 tixzral-nx 金黄色
3.装饰膜的镀制工艺 一．金属件装饰膜镀制工艺
比较成熟的镀膜技术有电弧离子镀、磁控溅射离子镀和复合离子镀。下面分别从各类镀膜技术中选取一种具有代表性的典型镀制工艺进行介绍。
1)用电弧离子镀的方法为黄铜电镀亮铬或镍手表壳镀制ticn膜。采用小弧源镀膜机和脉冲偏压电源；(1)工件清洗、上架、入炉
工件在入炉之前要经过超声波清洗、酸洗和漂洗三道工序。
首先是在超声波清洗槽中放入按使用要求配制的金属清洗剂，利用超声波进行脱脂、清洗。清洗之后，进行酸洗，它可以中和超声波清洗时残余的碱液，还能起到活化处理的作用。然后进行漂洗以彻底除去酸液，漂洗时必须采用去离子纯净水或蒸馏水。经过三洗后，即时进行烘干，温度一般控制在100℃左右，时间为1h左右。也可以风吹干后马上人炉。
(2)镀膜前的准备工作
①清洁真空镀膜室。用吸尘器将真空镀膜室清洁一遍。当经过多次镀膜时，真空镀膜室的内衬板还需作定期清洗，一般是半个月清洗一次。
②检查电弧蒸发源。工作前，要确保电弧蒸发源发源安装正确，绝缘良好，引弧针控制灵活,程合适，恰好能触及阴极表面。
③检查工件架的绝缘情况。工件架与地之间的绝缘必须须良好，负偏压电源与工件架的接触点点必须接触良好。
以上几项工作确保没有问题后，才可以关闭真空镀膜室的门，进行抽气和镀膜。
(3)抽真空
真空抽至6.6 x 10-3pa。开始是粗抽，从大气抽至5pa左右，用油扩散泵进行细抽。在粗抽时，可以烘烤加热至150℃。伴随镀膜室温度的升高，器壁放气会使真空度降低，然后又回升，等到温度回升到6.6 x 10-3pa时方可进行镀膜工作。
(4)轰击清洗 ①氩离子轰击清洗
真空度：通人高纯度氩气(99.999%)真空度保持在2～3pa。轰击电压：800～1000v。轰击时间：10min.此刻在真空镀膜室内发生辉光放电，放电产生的氩离子以较高的能量撞击工件表面，将工件表面吸附的气体、杂质和工件表面层原子溅射下来，露出材料的新鲜表面。
②钛轰击
真空度：通人高纯度氩气使真空度保持在2 x 10-2pa。脉冲偏压：400～500v，占空比20%。电弧电流：60～80a，轮换引燃电弧蒸发源，每个电弧蒸发源引燃1～2min。
(5)镀膜 ①镀钛
真空度：通人高纯度氩气，真空度保持在2 x 10-2pa。脉冲偏压：200～300v，占空比50 %。电弧电流：60～80a，引燃全部弧源，时间2～3min.②镀ticn 真空度：通人高纯度氮气使真空度保持在(3～8)x 10-1pa，然后再逐渐加大c2h2气体，随着c2h2气体量增大，色泽由金黄一赤金黄一玫瑰金一黑色变化。控制n2与c2h2两种气体的比例可以达到预定的色度。
电弧电流：50～70a。脉冲偏压：100～150v，占空比60 %～80 %。沉积温度：200℃左右。镀膜时间：10～20min，膜层厚度0.2～0.5μm。
(6)冷却
镀膜工序结束后，首先关闭电弧电源和偏压电源，然后关闭气源、停转架。工件在真空镀膜室内冷却至80～100℃时，向镀膜室内充大气，取出工件。
2)用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制zrn膜。采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源，以及脉冲偏压电源。
(1)抽真空
5 x 10-3～6.6 x 10-13pa本底真空。加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100～150℃。
2)轰击清洗
真空度：通人氩气真空度保持在2～3pa。轰击电压：800～1000v，脉冲占空比20%。轰击时间：10min。
(3)镀膜 ①沉积锆底层
真空度：通入氩气，真空度保持在s x lo-1pa。靶电压：400—550v，靶功率15 n 30w/crrr2。脉冲偏压：450～500v，占空比20 %。镀膜时间：5～10min。
②镀zrn膜
真空度：通入氮气，真空度保持在(3～5)x 10-1pa。靶电压：400～550v，靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压：150～200v，占空比80 %。镀膜时间：20～30min。由于磁控溅射技术中金属离化率低，不容易进行反应沉积，获得化合物膜层的工艺范围比较窄。可采用气体离子源将反应气体离化，扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源，柱状弧源还是辅助镀膜源。
(4)冷却
镀膜结束后，首先关闭磁控溅射靶电源、偏压电源，然后关闭气源、停转架。工伫件在真空镀膜室中冷却到100℃时，向镀膜室充大气，取出工件。
3)用复合涂层离子镀方法为黄铜电镀亮镍的手表壳镀制tin十au+ si02膜。采用电弧、磁控溅射、中频或射频溅射离子镀多功能镀膜机，在真空镀膜室壁上安装6个小平面弧源钛靶镀tin，中心安装柱状磁控溅射黄金靶镀金，壁上安装2个矩形平面磁控溅射si02靶或si靶镀si02。采用直流偏压电源。
(1)工件清洗、上架、入炉。方法同前。
(2)抽真空：本底真空最好达到6.6 x 10-3pa，烘烤加热温度为150℃左右。(3)轰击清洗。方法同前，包括氩轰击和钛轰击两种方法。(4)镀膜 ①沉积钛底层
真空度：通入高纯氩气，真空度保持在5 x 10-2pa。电弧电流：50～70a，引燃全部弧源，时间为2～3min。偏压：400～500v。
②沉积tin膜
真空度：通入高纯氮气，真空度保持在s x lo-1pa。偏压：100～200vo电弧电流：60～80a。沉积时间：10～20min，膜层厚度0.1～0.5μm。
③掺金镀
真空度：通入高纯氮气，真空度保持在5 x 10-2pa。偏压：100～150v。电弧电流：60a(真空镀膜室上、中、下各点燃1个源)。磁控溅射金靶电压：400—500v，电流3～5a;时间：1min。
④镀金
真空度：通入氩气，真空度保持在3 x 10-1pa。偏压：100～150v。溅射靶电压：400～550v。时间：5-10min。
⑤沉积si02 真空度：通入高纯氩气，真空度8 x 10-2pa或5x 10-1pa。中频（射频）电源功率：200～500w。时间：10～20min。
4)冷却：首先关闭中频（或射频）电源，然后关气源，停转架。工件在真空室内冷却到80-100℃时，向真空室充空气，取出工件。该工艺也叫掺金镀或ipg，最后一层si02是透明的，是保持金膜的，它可以延长金膜的磨损时间，根据客户的要求可有可无。
二．塑料件装饰膜的镀制工艺 采用pvd技术可在玻璃、陶瓷、塑料、水晶、木材、纸张等非金属工件上镀制金属膜及氮化膜、氧化膜。此处重点介绍塑料制品装饰膜的镀制技术，塑料制品镀金属膜的工艺也称塑料金属化。
为了填充塑料制品毛坯上的缺陷，提高表面光亮度和塑料与金属膜的结合力，在镀膜之前需要上底漆。为保护膜层还需上面漆。底漆、面漆由溶剂、树脂、助剂组成，按比例、顺序加入，混合搅拌。底漆、面漆一般采用溶剂型涂料，近几年出现了紫外线硬化涂料，它可以扩展塑料制品的应用领域。
塑料制品装饰膜的pvd技术有两种：真空蒸发镀和磁控溅射镀。真空蒸发镀设备结构简单、操作简便并且生产效率高，是目前广泛采用的塑料件的镀膜技术。
1)塑料制品装饰膜的真空蒸发镀工艺
一般塑料制品的真空蒸发镀膜机有卧式和立式双室（蚌形）两种。镀膜的工艺流程是：清洗脱脂——上架——涂底漆一固化——蒸发镀膜一涂面漆一固化——下架一染色——检验。
下面具体介绍镀膜的流程。(1)来料检验。
(2)干燥。待镀件来料时含较多水分，需进行干燥处理3～5h，温度为50～60℃。
3)上架。一般注塑时基本按真空镀膜要求生产，因此待镀件表面一般油污较少，经过一般的擦拭就可上架，但是来料油污多时需进行去污处理。方法是用市售洗洁剂逐件刷洗、漂洗、烘干。油污严重时还需用清洗剂在50～60℃，浸泡15～20min进行脱脂处理。
(4)除尘。这道工序是保证镀膜质量的关键之一，方法有两种：一种是用吸尘器对准上好架的待镀件仔细地除尘，能取得较理想的效果；另一种是用高压气“吹尘”的方法，这种方法必须装有油水分离器，但在实际工作中这种方法并不是很理想；还有一种方法是用静电除尘的方法，对质量要求较高时采用。
(5)涂底漆。涂底漆是保证镀膜质量的关键之二，涂底漆的目的是提高镀件表面的光洁度和光亮度；提高膜层结合力。
(6)烘干。涂漆流平后需进行干固处理，方法有红外线加热法、电热加热法及紫外线(uv)固化法等。固化温度为60～70℃，固化时间为1.5～2.5h。
(7)镀膜。镀膜是保证镀膜质量的关键。
镀膜前的准备工作：①钨丝的处理：一般采用φ0.75mm的3根绞合钨丝，用金属清洗剂将钨丝浸泡20～30min，60～90℃进行脱脂之后，彻底地漂洗烘干备用；②铝丝的处理：用纯度为99.9%～99.99%的铝丝或铝箔制成的蒸发舟进行碱处理，将铝丝浸泡在10%～15%的naoh溶液中2～3min，进行水汝洗3-5次，烘干2h备用。镀膜操作：待镀件上架，并装上钨丝，然后入炉，检查接触是否良好，转动正常，关真空室。抽真空：油扩散泵已预热1h;开机械泵，开粗抽阀、进行粗抽3—5min;开罗茨泵，开真空计测量真空达2～2.5pa；关粗抽阀，开前置阀，开高阀，进行细抽至(1～2)x 10-2pa即可蒸镀。真空度越高，膜层质量越好。
蒸镀：预熔的目的是除去铝丝、钨丝上的残余气体。此时，从真空计上可以看见真空度是下跌的，当真空由下跌转为上升，并回到本底真空时，可进行蒸发。蒸铝：作为装饰膜蒸铝时的真空控制在(1～2)x 10-2pa，蒸发采用快速蒸发可减少氧化概率，又不会使膜层的组织结构变粗；因而，可减少散射损失，提高反射率。
冷却充气：蒸铝以后，即可充气出炉。
(8)涂面漆。保护金属膜层，为着色工序做准备。
(9)着色。面漆彻底固化后可进行染色处理。根据客户要求，将不同颜色按按一定的比例进行配制，常用的配制24k金可用黄粉、金粉和红粉；配制黑色用黑粉、绿粉和蓝粉。为加强镀件的湿润性可加入1 %的冰乙酸，变色温度控制在60～70℃，不要超过80℃。
2)塑料件装饰膜的磁控溅射镀膜工艺：
塑料制品磁控溅射镀工艺流程及镀前、镀后处理与蒸发镀相同。(1)前处理。工件去油污，烘干去水。
(2)上底漆。烘干固化，固化温度为60—65℃。
(3)镀铝，也叫塑料表面金属化。采用柱状磁控溅射工艺镀铝。(4)上面漆。
(5)着色——冷染或热染。
第3篇：镀膜员工试题
镀膜员工试题库填空题: 1.关机时,关掉扩散泵加热，需要冷却 60分种以上 时间才可以关掉总电源
2.我们正常镀膜过程中镜片需要镀膜的一面应该向 下 放置。
3、写出+XP的意思 向正方向调X方向位置
4.新科隆机SID1100中生产IR CUT滤色片,每层开镀时, TiO2 材料的起始光控曲线方向向上, SiO2 材料的光控曲线方向向下。
5.新科隆机SID1100中的离子源,有 3 片栅极,从上到下依次为 TOP , MID , BOT;栅极间总共有 12 片陶瓷片绝缘.6.现在我们使用的镀膜机光学控制方式有 反射 式和 透射 式 两种,昭和机属于 透射 式新科隆机属于 反射式，光驰机属于反射 式。
7.相同蒸发条件下，饼料的SIO2，和颗粒状的SIO2，饼料的SiO2 所需的蒸发功率要高。
8.比较下列膜料正常蒸发功率，由大到小排列： MgF2 H4 SiO2 H4 > SiO2 > MgF2
9.选择下列光学原理： a、光的反射原理 b、光的折射原理 c、光的干涉原理 d、光的投射原理（1）看到水中筷子是弯曲的,利用光的 b（2）看到镜子里自已像，利用光的 a（3）光学薄膜利用光的 c
10.真空可以大致分为四段，分别为 初真空、低真空、高真空、超高真空
11.在真空的定义范围内，高真空度范围是 10-1-10-6 Pa
编辑版word 12.电子枪分为180°枪和270°枪，而目前韩一机器的电子枪 180 度，光驰机器的电子枪 180 度，昭和机器的电子枪270 度，新柯隆机器的电子枪 180 度，13.镜片放到镀膜机后，关门加热抽真空，等到 真空度 和 温度 到达，两者都满足设定要求后，机器才能开始镀膜。
14．目前我们镀膜机有两种厚度控制方法： 晶振控制 和 光控控制、15．昭和机器在没有放光控监控片下镀膜时，光控曲线 直线 形状
16、报警程序中PFC报警，其中PFC含义： POLYCOLD
17、当扩散泵指示灯闪烁时说明扩散泵还在加热 中，还不能打开高阀。
18、当扩散泵指示灯不闪烁时说明扩散泵已 加热完成，可以正常工作。
19、写出-YS的意思 减少Y方向电子枪光斑大小
20、目前我们镀膜机抽真空系统由 机械泵、罗茨泵、扩散泵 组成21、镀膜机中,膜层厚度的记录单位是: 埃（A）, 与米(m)的换算关系是: 10-10 , 速率的单位是: A/S.22、保持镀膜机开门时间尽可能的短，是为了防止真空室内部的护板吸附空气中的 水汽，使镀膜机的抽速变 慢，影响产品的品质。
23、薄膜微观结构是 柱状 结构，为了改善膜层结构，提高聚集密度，分别出现了三种成膜工艺 离子辅助、反应离子镀、溅射
编辑版word 24光学镀膜机真空排气系统中，机械泵排气原理： 机械压缩排除气体扩散泵排气原理： 靠蒸汽射流携带排除气体
25、POLYCOLD工作原理： 利用低温表面对 气体进行物理吸附排气
26、写出下列薄膜种类符号： （1）减反膜（2）、分束膜（3）内反射（4）偏振膜
27、写出下列真空度转换关系： 1Pa= 10-2 Mbar= 0.75E-2 Torr 1Torr= 133 Pa= 1.33 Mbar
28、镀单层MgF2,目前镀的是500nm，晶振厚度是1000A，而现在需要镀550nm，那么输入晶振厚度约为 1100 A
29、该层晶振厚度是800A，现已镀了150A，由于某种原因充气而需要加镀，那么加镀晶振厚度是 650 A
30、写出镀膜机各控制阀门的中文名称： MV 高阀 DP 扩散泵 RV 粗抽阀 SLV 细充气阀 FV 辅助阀
31、光学玻璃BK7折射率为1.517,则该玻璃表面单面反射率是 4.219%。
32、真空规管测量原理 通过气体放电方式产生电子，通过磁场使电子获得能量将气体分子电离
33、石英晶体控制原理 主要是利用了石英晶体的两个效应，即压电效应和质量负荷效应。
34、长波通膜系基本结构公式 A/(0.5HL0.5H)^p/G 短波通膜系基本结构公式 A/(0.5LH0.5L)^p/G
编辑版word 35、现配有 2把电子枪，面向机器 左边 为EB1, 右边 为EB2.36、正常新晶振的频率为 6 MHz左右.37、一般情况下,真空达到 7.0 Pa以上,高阀才会自动开启, 5E-3 Pa时,可以预熔膜料.38、开机时,扩散泵中的油温需加热到 250℃左右,扩散泵才能抽真空
39、氧气瓶中氧气的压力须大于 3 KG.40、若一个膜系40层,每个光控片控制2层膜,再备2片余量,总共需要放 22 片光控片.41、镀膜机开机前必须检查 冷却水 , 压缩空气 , 电 是否正常,是否稳定供应.42、晶振冷却水的进水温度要求是： 18 ~ 25 ℃
43、写出下列膜料分子式：二氧化硅 SiO2 氟化镁 MgF2 二氧化钛 TiO2 氧化铝 AL2O3
44、写出下列膜料分子式的名称： Ta2O5 五氧化二钽 Nb2O5 五氧化二钕 SiO 一氧化硅 MgO 氧化镁
45、韩一镀膜机有2个晶振头，外 边为1号，里 边为2号。
46、在点检机械泵、罗茨泵部件，必须查看 油位 是否满足标准要求
47、打开镀膜机时，必须给扩散泵预加热 60 分钟后才能用扩散泵抽真空
48、清冼电子枪、规管或离子源等部件，必须戴 手套 进行操作
编辑版word 49、利用光控控制镀膜机，一般在每炉摆放监控片数量必须多于程序中设定数量 2 片才可以关门。
50、在取放昭和机器光控片时，每个光控套筒里摆放 1 片干净、无伤痕监控片。
51、镀膜人员在机器罩子上取放镜片时，一定要戴 口罩。
52、晶振片和镀膜材料应放在 干燥器 中的目的是： 防止在空气中受潮。
53、有2块修正板的镀膜机，面向机器 左边 为MASK1, 右边 为MASK2。
54、写出下列中、英名称：晶振 crystal Coating 镀膜 真空 vacuum Optical 光学
55、开镀膜机之前，先需检查压缩空气压力在_5-8____公斤
56、开启稳压电源，稳压电压值应为___380___V左右。
57、开镀膜机之前，检查水压 3-5 公斤.58、光控控制的镀膜机蒸镀过程中光控曲线方向为：反射式控制的 高 折射率材料蒸镀方向向上；
59、机器大清洗后应进行 抽真空 和 加热 处理，才能正常生产。
60、我们现在的镀膜方式属于 热蒸发 方式。
二、选择题(不定项选择题)
编辑版word 1.在镀膜过程中,石英晶振可以显示以下哪些因素?(AD)A、蒸发速率 B、蒸发温度 C、真空度 D、膜层厚度
2．材料蒸发时，充氧的主要目的有哪些？（AB）A、补充材料失去的氧原子，使材料氧化更充分，降低膜层吸收 B、使每次镀膜时，真空室内的真空状态相接近C、使蒸发更稳定 D、使控制更精确。
3．镀膜机罩子或放扇形板的转动架须高速转动的目的是（ABCD）A、使同圈的膜层厚度分布均匀 B、使内外排膜层厚度分布均匀 C、使同圈温度分布均匀 D、使内外排温度分布均匀
4、现在我们生产Ir-cut平板滤色片，从反射看平板的颜色是（A）A、红色 B、绿色 C、蓝色 D、没有规律
5、油扩散泵上面加冷阱,其作用是(A D).A.防止扩散油分子回流到真空室 B.加快排氣速度.C.防止杂物掉入扩散泵.D、提高膜层附着力
6、为使蒸发材料分子从蒸发源到达基板时基本不和残余气体分子发生碰撞，故真空室内真空度要到达10-3Pa以下,以满足(B)条件 A、气体分子平均自由程小于蒸发距离.B、气体分子平均自由程远大于蒸发距离 C、气体分子平均自由程等于蒸发距离。D、气体分子平均自由程的平方大于蒸发距离。
7、对镀膜材料进行预熔的目的是（A C）A、去除材料内部的杂质 B、改变材料的表面形状 C、减少材料的放气 D、提高材料的温度
8、真空镀膜时真空度范围应在（C ）A、低真空 B、中真空 C、高真空 D、超高真空
编辑版word 9、电子枪“FIL”灯变红，故障原因是（C）A、电子枪高压线路故障 B、真空室底下门没有关好 C、电子枪灯丝有问题 D、电子枪电流回路故障。
10、提高膜层聚集密度工艺有（AD）A、提高离子源功率 B、降低温度 C、降低真空度 D、提高温度
11、黄色互补色是（B ）A、绿色 B、蓝色 C、红色 D、紫红色
12、增强膜层和镜片附着强度，以下那些因素有关（ABCD ）A、镜片表面清洁度 B、镜片表面温度 C、真空室内清洁度 D、膜层材料
13、镀650±10 IR-CUT滤色片，请问镀出在哪个波长范围内合格（B）A、640~660nm B、640~655nm C、630-660nm D、635-660nm
14、在可见光光谱中，绿色波长范围是（D ）A、600-570 B、500-450 C、630-600 D、570-500
15、SID1100的离子源中和器正常工作时,需要下列哪些气体? (AC)冷却时需要什么气体?(C)A、氧气(O2)B、氮气(N2)C、氩气(Ar)D、氦气(He)
16、镀膜镜片表面产生杂质，以下哪些是可能原因？（ABCD）A、材料本身不纯，有杂质 B、预熔时没熔透，镀膜时有飞溅 C、光斑打到边缘或外边，将其它物质镀到镜片上 D、坩埚盖板太脏，预熔时有膜料残渣掉进坩埚
17、镀膜机抽速慢，以下哪些可能会引起？（ABCD）A、各类泵油使用时间太长，已变质 B、POLYCOLD有问题 C、真空室的清洁不到位 D、机器有漏气
编辑版word 18、真空室内部清扫不干净，可能会导致以下哪些结果？（ABCD）A、机器抽速慢 B、零件表面灰尘 C、机器效率降低 D、分光特性不重复
19、下列哪些因素影响内外排的均匀性? (ABD)A、电子枪光斑的位置 B、电子枪光斑的形状、大小 C、真空度不稳定 D、修正板的形状和上升高度.20、正常情况下,真空室内部清洗干净后,机器的抽气速度将 (B)A、变慢 B、变快 C、不变 D、无法判断。
21、电子枪灯丝变形，可能有以下哪些结果 ？（ABCD）A、电子枪光斑变形，位置打偏 B、内外排分布不均匀 C、分光特性不良 D、产生杂质
23、在相同光斑大小和蒸发速率的情况下，AL2O3电子枪功率（A）SiO2电子枪功率 A、大于 B、小于 C、等于 D、不知道
24、下列属于镀膜机粗抽阀门符号是（C）A、LV B、SLV C、RV D、SRV
25、昭和机器利用光控监控镀膜，在新的一片光控片上镀（AD）材料光控曲线向下走动（未镀到极值点之前）A、TiO2 B、SiO2 C、MgF2 D、Ta2O5
26、1 Torr=(BC)A、1Pa B、133Pa C、1.33Mbar D、1Mbar
27、新科隆850离子源有（B）片栅极片 A、1 B、2 C、3 D、4
28、如果你镀出来一罩镜片有的排镜片合格，有的排不合格，与下列（ABC ）因素有关 A、光斑不在中心位置 B、修正板变形 C、电子枪档板松掉 D、蒸发速率不稳
编辑版word 29、在镀IR-CUT时，镀出镜片表面发黑，其原因是（D）A、镀膜材料受到污染 B、内外排分布不均匀 C、温度没有加 D、没有充氧
30、下列那个符号代表高阀（C ）A、FV B、MBP C、MV D、DP
31、下列那个符号代表光控（A ）A、OPM B、EB C、MBP D、PFC
32、关门抽真空，一般当真空度抽到（B ）时开始自动预熔膜料 A、1.5E-3Pa B、5.0E-3Pa C、2.0E-3Pa D、5.0E-5Pa
33、目前控制膜厚种类有（AC ）A、光学膜厚仪控制 B、电子枪控制 C、晶振膜厚仪控制 D、电脑控制
34、MgF2材料，我们可以采用是哪种蒸发方式： （A）A、电子枪蒸发 B、钼舟蒸发（阻蒸法）C、都不是 D、离子辅助蒸发
35、正常可升降修正板的镀膜机，若EB2正在镀膜,EB1,EB2上方的修正板,处于何种状态? (BC)A、EB1上方的修正板升起 B、EB2上方的修正板升起 C、EB1上方的修正板下降 D、EB2上方的修正板下降
34、韩一机从开始抽真空计时,到高阀开启,正常情况下需要多少分钟?(B)A、1分钟 B、5分钟 C、10分钟 D、30分钟
35、镀膜机在镀膜过程中,需要操作员工关注以下哪些情况?(ABCD)A、蒸发速率稳定情况 B、APC充氧情况 C、电子枪光斑位置及大小情况 D、光控曲线的走向及形状.编辑版word 36、为减少镜片人为污染，员工在取镜片时，应采取以下哪些保护措施？（BC）A、不开吸尘器 B、戴棉手套 C、戴口罩 D、戴手指套
37、手动预熔材料时，应注意下列哪些事项？ （ABCD）A、真空室内达到一定的真空度，开始加电流预熔材料 B、光斑不能打到坩埚边上，更不能打到坩埚外边 C、预熔时的电流一定要高于蒸发时的电流 D、不同材料不同的预熔电流
38、下列哪些部件在机器运行时需要冷却水？ (BCD)A、电子枪 B、扩散泵 C、坩埚盘 D、晶振头
39、有些镀膜夹具的摆放有上下之分,如棱镜、平板夹具，如果上下颠倒摆放,镜片会因于什么原因而报废：（D）A、破边 B、膜不洁 C、划伤 D、通光
40、镀膜机在自动充气（待开门）状态下，下列哪些情况是正确的？（ABC）A、LV开 B、MTR开 C、FV开 D、MV开。
41、在清洗和安装电子枪高压电极的引线时，为了防止扭坏电极，我们如何选择工具？ （B）A、鸭嘴钳 B、两只扳手 C、尖嘴钳 D、螺丝刀
42、对于AR膜而言，下列哪个波段反射率偏高时，镜片的反射光呈现红色？（D）A、400~420nm B、500~530nm C、580~620nm D、630~760nm
43、每台机器安装修正板的目的是 (C)A、调整内外排温度分布 B、调整机器内的真空度分布 C、调整内外排膜厚分布D、调整同圈厚度分布.编辑版word 44、如果加热板下方的温度探头移位,比正常时要低许多,结果镜片温度将会：（B）A、比正常时低 B、比正常时高 C、基本不变 D、划破镜片
45、在蒸镀膜料时，电子枪电流有，但加不高的原因是（AD ）A、装电子枪灯丝螺丝松了 B、电子枪灯丝寿命到期 C、灯丝断了 D、高压引线松动
46、在正常情况下，目前规定韩一机器使用新晶振最多只能镀（B）炉 A、一 B、二 C、三 D、不确定
47、镀膜机中EB代表的含义（C）A、电脑 B、扩散泵 C、电子枪 D、光斑
48、下列（B ）符号代表Y 方向的光斑大小 A、YP B、YS C、XP D、EB
49、下列（A）符号代表X 方向的光斑位置 A、XP B、XS C、YP D、EB
50、机器按规定（D）换护板。A、每周 B、每天 C、每炉 D、每班
51、在正常情况下，我们镀一炉650±10nm IR-CUT需要多长时间（A）A、6小时 B、2小时 C、4小时 D、8小时
52、在正常情况下，我们镀一炉普通增透需要多长时间（B）A、6小时 B、2小时 C、4小时 D、半小时
53、下列（B）符号代表X 方向的光斑大小 A、XP B、XS C、YP D、EB
54、下列（C ）符号代表Y 方向的光斑位置 A、XP B、XS C、YP D、EB
55、以下材料折射率最高的是（C ）A、SIO2 B、AL2O3 C、TIO2 D、MGF2
编辑版word 55、以下材料折射率最低的是（D）A、SIO2 B、AL2O3 C、TIO2 D、MGF2
56、晶振不好会导致以下哪些结果（AC）A、整罩分光特性超差 B、均匀性不好 C、表面不好 D、膜层牢固度不好
57、充氧不稳会导致以下哪些结果（A）A、整罩分光特性超差 B、均匀性不好 C、表面不好 D、膜层牢固度不好
58、光控曲线不好会导致以下哪些结果（A）A、整罩分光特性超差 B、均匀性不好 C、表面不好 D、膜层牢固度不好
59、温度不对会导致以下哪些结果（ABD）A、整罩分光特性超差 B、均匀性不好 C、表面不好 D、膜层牢固度不好
60、真空度不对会导致以下哪些结果（ABD）A、整罩分光特性超差 B、均匀性不好 C、表面不好 D、膜层牢固度不好
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