集成电路布图设计专有权的内容

    第二节　集成电路布图设计专有权的内容

    《集成电路布图设计保护条例》第7条规定布图设计权利人享有复制权和商业利用权。

    一、复制权

    复制权是指权利人有权通过光学的、电子学的方式或其他方式来复制其受保护的布图设计。^[2]布图设计只有应用于半导体产品中才有价值，这个过程就是将布图设计复制于半导体产品中。布图设计权人通过行使复制权，对布图设计进行进一步的利用，才能获取经济效益。各国都在立法中明确保护布图设计复制权。我国《集成电路布图设计保护条例》第30条规定，除该条例另有规定以外，未经布图设计权利人许可，复制受保护的布图设计的全部或其中任何具有独创性的部分，即构成侵权行为，应承担相应的责任。

    二、商业利用权

    商业利用权指布图设计权人享有的将受保护布图设计及含有该受保护的布图设计的集成电路或含有此种集成电路的产品进行商业利用的权利。他人未经权利人同意，不得将布图设计投入商业利用。《集成电路布图设计保护条例》第2条第5项规定，商业利用，是指为商业目的进口、销售或以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或含有该集成电路物品的行为。

    Trips协议与《华盛顿条约》有关商业利用权的内容和要求略有不同。Trips协议第36条中对商业利用权的规定为：“为工商业目的而进口、销售、推销受保护的布图设计，或由这种受保护的布图设计所构成的集成电路，或由这种集成电路构成的物品。”《华盛顿条约》第6条中对商业利用权的规定为：“为商业目的进口、销售或者以其他方式供销受保护的布图设计或者其中含有受保护的布图设计（拓扑图）的集成电路。”《华盛顿条约》中规定的商业利用权的范围比Trips协议的规定略窄，不包含对含有专有权的布图设计的集成电路构成物品的商业利用。

    布图设计权人除了享有上述复制权和商业利用权外，还有权许可他人使用其布图设计，或转让布图设计专有权，行使其布图设计的处分权。